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富士通推出LTO Ultrium8盒式磁带

2019-09-10 23:56来源:中国存储网
导读:富士通FujiFilm 于2019年9月2日推出LTO Ultrium8盒式磁带(LTO-8)。

中国存储网消息,富士通FujiFilm 于2019年9月2日推出LTO Ultrium8盒式磁带(LTO-8)。

 

富士通推出LTO Ultrium8盒式磁带

 

LTO-8 遵循第8代LTO Ultrium (*)磁带存储介质标准,允许使用具有记录/检索性能的钡铁氧体(BaFe)磁性颗粒备份和存档大容量数据,长期耐用。它提供30TB的存储容量(非压缩数据为12TB),是上一代容量的两倍(**)。它还能够以750MB / s的速度传输数据(非压缩时为360MB / s),它以低成本提供海量数据的安全和长期存储。

近年来,随着高清4K和8K视频的扩展,物联网和ICT的发展以及人工智能在大数据分析中的应用,全球产生的数据量呈指数增长。这包括“冷数据”或很久以前生成且很少访问的数据,估计占所有数据的80%以上。

随着包括冷数据在内的累积数据的利用率迅速增加,对这些数据的可靠且成本有效的长期存储的需求也将增加,以备将来使用。多年来,磁带已经在主要数据中心和研究机构中使用,因为磁带提供了大容量存储,低成本和长期存储性能,并且还创建了“气隙”数据保护,与网络物理隔离,从而最大限度地减少了磁带。网络攻击造成数据损坏或丢失的风险。未来,磁带有望用于生成大量数据的研究领域,例如基于AI / IoT的智能制造,以实现高质量和高效率的生产,以及未来的联网汽车。

富士通公司已开发出具有磁性和长期储存性能的优质BaFe磁性颗粒,并于2011年推出了世界上第一个商用BaFe储存盒。2012年,该公司推出LTO-6,这是第一款使用BaFe的LTO Ultrium标准数据盒产品磁性粒子。预见到传统金属磁性颗粒的容量限制,该公司早期的BaFe磁带商业化使该公司能够引领市场。

通过LTO-8,富士通公司进一步开发了NanoCubic技术(***),以生产比LTO-7中使用的更小的BaFe磁性颗粒。通过受控的分散工艺分离磁性颗粒,并控制带表面粗糙度,通过增强的NANO涂层技术实现磁性层的光滑表面。通过这种方式,该公司将存储容量提高到30TB(非压缩数据为12TB),是LTO-7容量的两倍,高速数据传输速率达到750MB / s(非压缩数据为360MB / s)。此外,适当的材料设计允许磁带驱动器中磁头的跟踪性能和耐用性,提高稳定性和性能。

(*)   Linear Tape-Open,LTO,LTO徽标,Ultrium和Ultrium徽标是Hewlett Packard Enterprise,IBM和Quantum在美国和其他国家/地区的注册商标。
(**) LTO Ultrium7数据盒式磁带符合第7代LTO Ultrium标准
(***)富士胶片基于纳米技术的磁带技术,采用薄涂层实现高密度磁数据记录。它包括用于将磁性颗粒配制成纳米尺寸颗粒的“纳米颗粒技术”,用于均匀分散和排列纳米尺寸磁性颗粒的“纳米分散技术”,以及用于实现纳米尺寸磁性颗粒涂层的“纳米涂层技术”。超薄层。
(* 4)制造商份额,根据Fujifilm数据

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关键词 :
富士通 LTO-8
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