光刻机

芯片破壁者:光刻技术的“鬼斧”之变

在我们今天看来,晶体管发明以后,集成电路的出现一直到今天超大规模集成电路的出现,似乎是一件水到渠成的事情。但是如果回到半导体产业初兴的历史现场,我们就会发现没有任何一项关键技术的突破是 必然产生 的。光刻技术,正是半导体芯片得以出现的关键技.....

国内光刻机设备现状

近期光刻机的相关消息铺天盖地,在国际贸易摩擦反复无常的环境背景下,业界对于仍处处受制于他国的光刻机设备格外关注。据了解,光刻机是通过光学系统将光掩模版上设计好的集成电路图形印制到硅衬底的感光材料上,实现图形转移,根据应用工序不同,光刻机可.....

世界光刻机巨头ASML“握手”无锡

5月,全世界著名光刻机生产研发公司荷兰阿斯麦(ASML)公司与无锡高新区管委会签署战略合作协议,未来阿斯麦公司将在原有基础上对资源进行整合提升,加速扩建光刻设备技术服务(无锡)基地。光刻机,又名掩模对准曝光机,是制造大规模集成电路的核心装备......

国产半导体用光刻胶发展新动态

前段时间, 光刻胶 概念在市场上受到关注,作为关键性电子化学品之一,光刻胶是实现半导体材料国产替代的重点领域,那么目前中国本土光刻胶发展现状如何?本土企业的光刻胶产品或项目有何新动态?据了解,光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一,其.....

南大光电披露光刻胶项目最新进展

江苏南大光电材料股份有限公司(以下简称 南大光电 )在股票交易异常波动的公告中披露了其光刻胶项目最新进展。公告显示,南大光电承接的国家 02专项 之 ArF光刻胶产品的开发和产业化项目 的基础建设按计划进行;2019年底完成一条生产线......